中國 AI 領軍人士在晶片設備受限下，目標於2030年前彌合對美技術差距

2026年1月10日，北京的中國頂尖 AI 研究者表示，儘管美國在算力上仍佔優，中國有望在三至五年內誕生一家全球領先的 AI 公司。他們警告主要障礙在於先進晶片製造工具短缺，一台極紫外（EUV）光刻原型機預計要到2030年才可能產出可用晶片。投資者興致高企，MiniMax 與 Zhipu AI 在 Hong Kong Stock Exchange 的亮相表現不俗，同時本土企業在緊縮預算下嘗試以更小、更低成本的硬件運行大型模型。